首页> 外文OA文献 >Coulomb Gap in a Doped Semiconductor near the Metal-Insulator Transition: Tunneling Experiment and Scaling Ansatz
【2h】

Coulomb Gap in a Doped Semiconductor near the Metal-Insulator Transition: Tunneling Experiment and Scaling Ansatz

机译:金属绝缘体附近的掺杂半导体中的库仑间隙   过渡:隧道实验和缩放ansatz

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Electron tunneling experiments are used to probe Coulomb correlation effectsin the single-particle density-of-states (DOS) of boron-doped silicon crystalsnear the critical density of the metal-insulator transition (MIT). At lowenergies, a DOS measurement distinguishes between insulating and metallicsamples with densities 10 to 15 % on either side of the MIT. However, at higherenergies the DOS of both insulators and metals show a common behavior,increasing roughly as the square-root of energy. The observed characteristicsof the DOS can be understood using a classical treatment of Coulombinteractions combined with a phenomenological scaling ansatz to describe thelength-scale dependence of the dielectric constant as the MIT is approachedfrom the insulating side.
机译:电子隧穿实验用于探测掺硼硅晶体的单粒子状态密度(DOS)在金属-绝缘体转变的临界密度(MIT)附近的库仑相关效应。在低能情况下,DOS测量可区分MIT两侧的绝缘样品和金属样品,其密度为10%到15%。但是,在较高的能量下,绝缘子和金属的DOS都表现出共同的行为,并且随着能量平方根的增加而大致增加。使用库仑相互作用的经典处理方法结合现象学尺度的ansatz可以描述DOS的观测特性,以描述当从绝缘层接近MIT时介电常数的长度尺度依赖性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号